12月22日消息，刻機長期以來，意想用于醫(yī)學EUV光刻技術一直被主要用于打造最強大的途竟邏輯與存儲芯片。

不過比利時微電子研究中心（IMEC）近日首次成功利用ASML的生物EUV光刻設備，在300毫米晶圓上實現(xiàn)了固態(tài)納米孔的刻機晶圓級制造。

這項進展被ASML公關負責人譽為“意想不到且出色的意想用于醫(yī)學生物醫(yī)學應用”。

所謂納米孔，途竟是生物直徑僅有幾納米的微小孔洞，其精細程度約為人類頭發(fā)絲的刻機萬分之一，在生物傳感領域，意想用于醫(yī)學納米孔的途竟作用如同“分子檢查站”。

當離子電流流過孔洞時，生物通過其中的刻機分子（如病毒、蛋白質(zhì)或 DNA）會對電流產(chǎn)生獨特的意想用于醫(yī)學信號，科學家可以根據(jù)這些獨特的途竟電信號，高靈敏度地辨別分子的尺寸、結構和電荷。

雖然納米孔在基因組學和蛋白質(zhì)組學中具有巨大潛力，但過往受限于制造變異性大和集成困難，始終無法實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。

imec的突破在于利用EUV技術確保了孔徑的高度一致性，目前孔徑已精確縮小至約10納米，未來更有望通過工藝改進突破5納米。

更重要的是，這種方法與CMOS兼容，意味著生物傳感器可以像生產(chǎn)芯片一樣在300毫米晶圓上大規(guī)模制造。

imec研發(fā)項目經(jīng)理Ashesh Ray Chaudhuri表示，將原本用于芯片制造的EUV基礎設施應用于生命科學，已經(jīng)為高通量生物傳感器陣列打開了大門。