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臺(tái)積電1.4nm工藝A14瞄準(zhǔn)2028:10年來(lái)性能提升80%

字號(hào)+ 作者:企業(yè)錄(www.falconvsmonkey.com)-公司信息發(fā)布,網(wǎng)上買(mǎi)賣(mài)交易門(mén)戶(hù) 來(lái)源:熱點(diǎn) 2025-12-05 08:12:07 我要評(píng)論(0)

11月30日消息,作為當(dāng)前的半導(dǎo)體晶圓代工一哥,臺(tái)積電的發(fā)展方向無(wú)疑是最受關(guān)注的,未來(lái)的工藝逐漸逼近1nm節(jié)點(diǎn)了,還能不能發(fā)展下去,來(lái)看臺(tái)積電最新公布的路線(xiàn)圖。在開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)生態(tài)系統(tǒng)論壇上,臺(tái)積電公布

11月30日消息,臺(tái)積作為當(dāng)前的瞄準(zhǔn)半導(dǎo)體晶圓代工一哥,臺(tái)積電的年性能提發(fā)展方向無(wú)疑是最受關(guān)注的,未來(lái)的臺(tái)積工藝逐漸逼近1nm節(jié)點(diǎn)了,還能不能發(fā)展下去,瞄準(zhǔn)來(lái)看臺(tái)積電最新公布的年性能提路線(xiàn)圖。

在開(kāi)放創(chuàng)新平臺(tái)生態(tài)系統(tǒng)論壇上,臺(tái)積臺(tái)積電公布了未來(lái)幾年的瞄準(zhǔn)邏輯工藝路線(xiàn)圖,以今年2025為中心,年性能提當(dāng)前量產(chǎn)的臺(tái)積FinFET技術(shù)路線(xiàn)的工藝是3nm的,包括有N3、瞄準(zhǔn)N3E、年性能提N3P、臺(tái)積N3X及N3C。瞄準(zhǔn)

2nm節(jié)點(diǎn)開(kāi)始使用Nanosheet晶體管,年性能提也就是GAA環(huán)繞柵極晶體管的具體實(shí)現(xiàn),今年量產(chǎn)的是N2,率先確認(rèn)用上這個(gè)工藝的反而是AMD的Zen6架構(gòu)EPYC處理器,明年才上市。

后續(xù)還會(huì)有N2P及N2X工藝,但在這中間會(huì)有個(gè)A16 SPR工藝,SPR代表的是臺(tái)積電的背面供電技術(shù)Super Power Rail,跟Intel的PowerVia據(jù)說(shuō)有很大不同,技術(shù)上更先進(jìn),不過(guò)具體效果等量產(chǎn)了才能準(zhǔn)確對(duì)比。

A16 SPR其實(shí)就是最初規(guī)劃的2nm工藝,但期間有種種調(diào)整,臺(tái)積電把GAA與背部供電技術(shù)錯(cuò)開(kāi)量產(chǎn),而不是像三星、Intel那樣在同一代工藝上量產(chǎn)。

再之后的A14節(jié)點(diǎn)會(huì)是一個(gè)重大更新,GAA與背部供電技術(shù)于一體,性能及能效更好看一些。

臺(tái)積電公布這份路線(xiàn)圖是為了證明他們有能力在未來(lái)幾年中保持每年更新工藝,且每代工藝的性能及能效都會(huì)有差不多的提升,這是在給客戶(hù)信心。

以2018年的7nm節(jié)點(diǎn)N7為基準(zhǔn),每代工藝在同樣的功耗下性能提升都差不多,在15-18%之間,而同性能下功耗也會(huì)大幅下降,N7到N3每代都降低了1/3以上,不過(guò)N3到未來(lái)的A14工藝每代降低1/4左右。

對(duì)比N7,臺(tái)積電提到A14工藝同功耗下提升83%的性能,能效則是3.2倍提升。

也就是說(shuō)從2018到2028年的10年中,芯片工藝的性能提升大約是80%,這個(gè)數(shù)據(jù)怎么說(shuō)呢,如果還想對(duì)比摩爾定律,那顯然是很讓人失望的,不過(guò)業(yè)界也很清楚,28nm節(jié)點(diǎn)之后摩爾定律就逐漸失效了,能有80%的性能提升已經(jīng)很不容易了。

2018年N7代表處理器是蘋(píng)果A12,頻率最高也就2.5GHz,晶體管數(shù)量69億,當(dāng)前的A18 Pro處理器能做到4GHz頻率,200億晶體管,距離未來(lái)的A14節(jié)點(diǎn)還有兩三代工藝,5GHz頻率、300億晶體管規(guī)模應(yīng)該是可以期待一下的。

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