12月22日消息，刻機(jī)長(zhǎng)期以來(lái)，意想用于醫(yī)學(xué)EUV光刻技術(shù)一直被主要用于打造最強(qiáng)大的途竟邏輯與存儲(chǔ)芯片。

不過(guò)比利時(shí)微電子研究中心（IMEC）近日首次成功利用ASML的生物EUV光刻設(shè)備，在300毫米晶圓上實(shí)現(xiàn)了固態(tài)納米孔的刻機(jī)晶圓級(jí)制造。

這項(xiàng)進(jìn)展被ASML公關(guān)負(fù)責(zé)人譽(yù)為“意想不到且出色的意想用于醫(yī)學(xué)生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用”。

所謂納米孔，途竟是生物直徑僅有幾納米的微小孔洞，其精細(xì)程度約為人類頭發(fā)絲的刻機(jī)萬(wàn)分之一，在生物傳感領(lǐng)域，意想用于醫(yī)學(xué)納米孔的途竟作用如同“分子檢查站”。

當(dāng)離子電流流過(guò)孔洞時(shí)，生物通過(guò)其中的刻機(jī)分子（如病毒、蛋白質(zhì)或 DNA）會(huì)對(duì)電流產(chǎn)生獨(dú)特的意想用于醫(yī)學(xué)信號(hào)，科學(xué)家可以根據(jù)這些獨(dú)特的途竟電信號(hào)，高靈敏度地辨別分子的尺寸、結(jié)構(gòu)和電荷。

雖然納米孔在基因組學(xué)和蛋白質(zhì)組學(xué)中具有巨大潛力，但過(guò)往受限于制造變異性大和集成困難，始終無(wú)法實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)。

imec的突破在于利用EUV技術(shù)確保了孔徑的高度一致性，目前孔徑已精確縮小至約10納米，未來(lái)更有望通過(guò)工藝改進(jìn)突破5納米。

更重要的是，這種方法與CMOS兼容，意味著生物傳感器可以像生產(chǎn)芯片一樣在300毫米晶圓上大規(guī)模制造。

imec研發(fā)項(xiàng)目經(jīng)理Ashesh Ray Chaudhuri表示，將原本用于芯片制造的EUV基礎(chǔ)設(shè)施應(yīng)用于生命科學(xué)，已經(jīng)為高通量生物傳感器陣列打開了大門。